当前位置:首页  >  技术文章  >  高温真空烧结炉的应用领域与典型场景

高温真空烧结炉的应用领域与典型场景
更新时间:2026-02-03      阅读:92
高温真空烧结炉是一款集负压(真空)、正压、常压烧结功能于一体的高性能工业炉设备,采用国标压力容器设计标准与PLC智能控制系统,适配空气、氮气、氩气等多气氛环境,广泛应用于材料加工、冶金、陶瓷、电子、新材料研发等行业,为各类材料的高温烧结工艺提供稳定的解决方案。
烧结炉采用硅碳棒U型发热体,全并联均匀布置于炉膛两侧,热效率高、发热均匀,配合两点控温+检测报警连锁系统,温度均匀性达±10℃,稳定性±2℃,控温精度±1℃;创新砖料组合型炉膛结构,底部轻质莫来石耐火砖(带导热槽)+顶部重结晶碳化硅炉底板+四周氧化铝陶瓷纤维,兼具承重耐磨与轻质节能优势,较传统电炉重量轻40%,节能30%以上,空炉损耗小,升温速度可达15℃/min。
应用领域与典型场景:
‌陶瓷材料制备‌:
用于氧化铝、氮化硅、碳化硅等特种陶瓷的烧结,提升致密度和耐磨性。石墨热场炉还可实现脱蜡与高温烧结一体化流程。
‌金属与合金加工‌:
支持钛合金、钨铜合金、高温合金等材料的无氧烧结,改善抗腐蚀性和高温性能。真空热压烧结炉还能施加5–800吨压力,进一步提高材料密度。
‌新能源材料‌:
在锂离子电池电极材料、太阳能电池关键材料的烧结中发挥重要作用,有助于提高能量密度和循环寿命。
‌半导体与电子器件‌:
用于芯片封装、晶圆镀膜等纳米级工艺,保障高纯度和结构稳定性。
‌科研与新材料开发‌:
实验室型号支持新材料的物理化学性质分析、纳米材料晶粒生长控制等基础研究。
 
 
电话 询价

产品目录